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    LOGO PATCH BEANIE - Mütze - ivory

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    Material Oberstoff:
     
    45% Viskose, 30% Wolle, 20% Nylon, 5% Elasthan
    Materialkonstruktion:
     
    Ripp
    Pflegehinweise:
     
    Chemische Reinigung

    Muster:
     
    Unifarben
    Artikelnummer:
     
    R8I51B02P-A11
    RUSLAN BAGINSKIY